2019 : Desain dan Fabrikasi Piranti Antirefleksi Tiga Lapis TiO2-PS-PMMA dengan Teknik Sol-gel Spin-Coating untuk Aplikasi pada Sel Surya

Drs. Hasto Sunarno M.Sc.
Drs. Gatut Yudoyono MT
Muhammad Arief Bustomi S.Si., M.Si.
Nurrisma Puspitasari S.Si., M.Si.


Abstract

Akan dilakukan penelitian tentang desain dan fabrikasi piranti antirefleksi dengan struktur multiyer. Material yang digunakan adalah nanopartikel TiO2 berfase rutil sebagai lapisan berindeks bias tinggi dengan kombinasi lapisan polimer yang berindeks bias rendah. Dipilih polimer polistiren (PS) dan poli metil-metakrilat (PMMA) sebagai pelapis luar untuk meningkatkan reflektansi ketika berkas cahaya mengenainya. Piranti antirefleksi difabrikasi dengan menggunakan metode sol-gel teknik spin-coating. Hasil penelitian sebelumnya menunjukkan bahwa dengan teknik spin-coating didapatkan hasil lapisan yang relatif tipis dan merata sehingga dapat mengurangi fenomena refleksi baur. Karakterisasi piranti antirefleksi dilakukan menggunakan spektrometer.