Yoyok Cahyono, Mochamad Zainuri, Suminar Pratapa, Eddy Yahya, Darminto : Karakterisasi Komposisi Mikro Lapisan Intrinsik Silikon Terhidrogenasi (Si:H) 2-lapis menggunakan TEM-EDX

Drs. Yoyok Cahyono M.Si.
Drs. Mochamad Zainuri M.Si.
Prof. Drs. Suminar Pratapa M.Sc., Ph.D.
Prof.Dr.Ir Eddy Yahya M.Sc
Prof. Dr. Drs. Darminto M.Sc

Year

-

Published in

Seminar Nasional Fisika dan Pendidikan Fisika Tahun 2016

External link

Type

Seminar Nasional

Keywords

PECVD, 2-lapis, STEM-EDX, peta EDS


Abstract

Lapisan intrinsik Si:H ini terdiri dari 2 lapis, dan ditumbuhkan pada kaca ITO (Indium Tin Oxide) menggunakan metode PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition) tanpa doping melalui variasi pengenceran hidrogen R=H2/SiH4 pada temperatur substrat 270oC, daya RF 10 watt, dan tekanan chamber 530 mTorr. Lapis pertama, ditumbuhkan dengan pengenceran hidrogen R=0, dan lapis kedua dengan R=36. Perubahan dari komposisi unsur, konsentrasi, dan distribusi unsur-unsur dalam lapisan dianalisis dengan menggunakan EDS (energy dispersive X-ray spectra). Komposisi kualitatif dari struktur yang diamati dalam lapisan ditunjukkan dalam peta EDS.